第386章 超级快充!浸润式光刻模组(3)
作者:饥饿的考拉      更新:2025-01-07 23:04      字数:2057
;这个时候,有人提出了一个天才般的想法。

  在晶圆上滴一滴水。

  水折射率更高,更不容易发生全反射现象。

  这样一来物镜就能做的更粗,造出的芯片就更强。

  这也就是浸润式光刻机这个名字的由来。

  将晶圆用水浸润了嘛。

  但这又面临了一个巨大的问题。

  晶圆成像时温度会升高,需要流动的水来进行降温。

  但在成像过程中,又要求这流动的水能像光学镜头一样光滑,不能有扰动。

  出现扰动会怎么样?

  晶圆会报废。

  所以这“水”,其实不是一般的水。

  这个难题,一直都有困扰着腾达研发中心甚至是全世界相关领域的专家。

  腾达研发中心虽有进度,但是进度很慢。

  当初黎星若向陈腾提出光刻机制造过程中的难点时,也有提到这个问题衍生出来的子问题。

  可是现在,系统把这整个模组的技术详解都给了陈腾。

  陈腾将原来超级快充技术详解的u盘拔出,把浸润式光刻模组技术详解的u盘插入。

  打开里面的内容一看。

  很好,陈腾基本上全都看不懂。

  不过陈腾却忍不住笑出了声来。

  这次啊,真的是赚大了!